專注半導體行業
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簡要描述：全封閉式桌面顯影機 主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩定性好，重復性好，對顯影作業有非常理想的效果。設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動，實現自動顯影和清洗作業。
所在城市：無錫市 廠商性質：生產廠家更新日期：2025-02-11訪 問 量：6082相關文章
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| 品牌 | LEBO/雷博 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫療衛生,化工,能源,電子/電池 | 產品尺寸 | 550mm (W) x600mm (D) x405mm (H) |
產品優勢
·全封閉式顯影，避免霧氣擴散到外部，污染環境。
·外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。
·內腔不銹鋼材質，鏡面拋光處理，光滑，耐腐蝕，易清洗。
·內置真空過濾器，防止液體吸入真空泵。
·真空壓力可調，壓力值實時顯示。
·液體流量可調，回吸可調。
產品參數
支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）
·轉速分辨率：±1 RPM
·旋涂速度：20-3000rpm（空載）
·旋涂加速度：20-10,000rpm/sec（空載）
·工藝時間設定： 0-3,000sec/step，時間設置精度： 0.1sec
·該機型適用于標準3路顯影機（1路顯影液，1路純水，1路氮氣）
·單步工藝及多步工藝可選，內置100組可編輯程序
·可根據客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。
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